Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F03%3A12030015" target="_blank" >RIV/68081731:_____/03:12030015 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.

Popis výsledku v původním jazyce

This paper presents the results of a research concerning the fabrication of binary and multi-level phase-only diffractive optical elements (PDOE) using the technology of electron beam lithography. The electron beam lithography technology was used directly for modification of the reliefs of thin layers of PMMA resist such that the relief structure created in PMMA be optically functional for the given phase-only optical element. The paper inc ludes discussion of the issues pertaining to the capabilities of electron beam lithography to create defined 3D relief structures in thin layers of PMMA resist.

Název v anglickém jazyce

Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.

Popis výsledku anglicky

This paper presents the results of a research concerning the fabrication of binary and multi-level phase-only diffractive optical elements (PDOE) using the technology of electron beam lithography. The electron beam lithography technology was used directly for modification of the reliefs of thin layers of PMMA resist such that the relief structure created in PMMA be optically functional for the given phase-only optical element. The paper inc ludes discussion of the issues pertaining to the capabilities of electron beam lithography to create defined 3D relief structures in thin layers of PMMA resist.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/IBS2065014" target="_blank" >IBS2065014: Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of the 9th International Workshop on Applied Physics of Condensed Matter.

ISBN

80-8070-088-5

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

241-244

Název nakladatele

FEE University of Žilina

Místo vydání

Žilina

Místo konání akce

Malá Lučivá [SK]

Datum konání akce

11. 6. 2003

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—