Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F06%3A00094701" target="_blank" >RIV/68081731:_____/06:00094701 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Elektronový litograf BS601M je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu difraktivních optických struktur. Na elektronovém litografu se přímou ezpozicí elektronovým svazkem do rezistu naneseného na Si-podložce exponují mikrostruktury, které se používají jako mastery v následné technologii výroby holografických struktur. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazek od (50 H 50) nm do (3150 H 3150) nm s krokem 50 nm, s vychylovacím polem (3 H 3) mm s krokem 50 nm a s maximální exponovatelná oblast je (100 H 80) mm. Rychlost typické expozice (600 mil. razítek H 30 H 30 mm) je 2.5 hodiny.

  • Název v anglickém jazyce

    Electron-beam writing system for diffractive optical elements

  • Popis výsledku anglicky

    Electron beam writing system BS601M is an electron-optical device designed and optimised for exposure of diffraction optical elements. The electron beam writing system produces microstructures by direct exposure of electron resist on Si substrate. Thesemicrostructures are used as a masters in a technology of holographic structurures production. Electron beam writing system uses fixed energy of 15 keV, a shaped rectangular variable-size electron beam ranging from (50 H 50) nm do (3150 H 3150) nm with step 50 nm, a scan field (3 H 3) mm with deflection step 50 nm and maximum area of exposure (100 H 80) mm. Typical exposure takes 2.5 hours (600 mil. stamps H 30 mm H 30 mm ).

Klasifikace

  • Druh

    Z<sub>x</sub> - Nezařazeno - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2006

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    65701

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    Urychlovací napětí elektronové trysky 15 kV.

  • Ekonomické parametry

    Elektronový litograf BS601M byl nainstalován ve firmě Optaglio v červenci roku 2006 kde nahradil obdobné zastaralé zařízení s horšími parametry.

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    68081731

  • Název vlastníka

    Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

  • Požadavek na licenční poplatek

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem