Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F07%3A00092589" target="_blank" >RIV/68081731:_____/07:00092589 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System
Popis výsledku v původním jazyce
The minimum stamp size of the electron-beam writing system working with rectangular variable-size beam shape was reduced from 100 nm to 50 nm by modification of electron-optical system. Consequently the writing speed was increased due to four time highercurrent density.
Název v anglickém jazyce
Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System
Popis výsledku anglicky
The minimum stamp size of the electron-beam writing system working with rectangular variable-size beam shape was reduced from 100 nm to 50 nm by modification of electron-optical system. Consequently the writing speed was increased due to four time highercurrent density.

Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2325" target="_blank" >GA102/05/2325: Elektronová litografie pro přípravu nanostruktur</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy
ISBN
978-80-239-9397-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
87-88
Název nakladatele
Czechoslovak Microscopy Society
Místo vydání
Prague
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
17. 6. 2007
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)