Chemická depozice z plynné fáze využívající mikrovlnný výboj nebo žhavené vlákno diamantových multivrstev na Si a WC-Co substrátech

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F07%3A00054689" target="_blank" >RIV/68081731:_____/07:00054689 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Microwave and hot filament chemical vapour deposition of diamond multilayers on Si and WC-Co substrates

Popis výsledku v původním jazyce

A serious problem in the use of chemical-vapour-deposited polycrystalline diamond coatings in electronics, optics as well as in cutting tools is the high surface roughness. In our work, microcrystalline and nanocrystalline diamond films with a thicknessof 0.5?5 .mu.m were deposited using microwave chemical vapour deposition (MW CVD), and with a thickness of 1?4 .mu.m by hot filament chemical vapour deposition (HF CVD). For both deposition technologies, we investigated the effect of a negative bias uponthe formation of microcrystalline and nanocrystalline diamond multilayers. In the cases of smooth Si and relief WC?Co substrate surfaces, the multilayers were found to have a "cauliflower" look. The structure and composition of deposited layers were checked by scanning electron microscopy and Raman spectroscopy.

Název v anglickém jazyce

Microwave and hot filament chemical vapour deposition of diamond multilayers on Si and WC-Co substrates

Popis výsledku anglicky

A serious problem in the use of chemical-vapour-deposited polycrystalline diamond coatings in electronics, optics as well as in cutting tools is the high surface roughness. In our work, microcrystalline and nanocrystalline diamond films with a thicknessof 0.5?5 .mu.m were deposited using microwave chemical vapour deposition (MW CVD), and with a thickness of 1?4 .mu.m by hot filament chemical vapour deposition (HF CVD). For both deposition technologies, we investigated the effect of a negative bias uponthe formation of microcrystalline and nanocrystalline diamond multilayers. In the cases of smooth Si and relief WC?Co substrate surfaces, the multilayers were found to have a "cauliflower" look. The structure and composition of deposited layers were checked by scanning electron microscopy and Raman spectroscopy.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F05%2F0607" target="_blank" >GA202/05/0607: Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Microelectronic Journal

ISSN

0026-2692

e-ISSN

—

Svazek periodika

38

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

20-23

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—