Multiaxis interferometric system for positioning in nanometrology
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00352186" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00352186 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Multiaxis interferometric system for positioning in nanometrology
Popis výsledku v původním jazyce
We present a system for dimensional nanometrology based on scanning probe microscopy techniques (primarily atomic force microscopy, AFM) for detection of sample profile combined with interferometer controlled positioning. The interferometric setup not only improves resolution of the position control but also ensures direct traceability to the primary etalon of length. The system was developed to operate at and in cooperation with the Czech metrology institute for calibration purposes and nanometrology.The interferometers are supplied from a frequency doubled Nd:YAG laser stabilized by linear absorption spectroscopy in molecular iodine and the interferometric configuration controls the stage position in all six degrees of freedom.
Název v anglickém jazyce
Multiaxis interferometric system for positioning in nanometrology
Popis výsledku anglicky
We present a system for dimensional nanometrology based on scanning probe microscopy techniques (primarily atomic force microscopy, AFM) for detection of sample profile combined with interferometer controlled positioning. The interferometric setup not only improves resolution of the position control but also ensures direct traceability to the primary etalon of length. The system was developed to operate at and in cooperation with the Czech metrology institute for calibration purposes and nanometrology.The interferometers are supplied from a frequency doubled Nd:YAG laser stabilized by linear absorption spectroscopy in molecular iodine and the interferometric configuration controls the stage position in all six degrees of freedom.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of the 9th WSEAS International Conference on Microelectronics, Nanoelectronics, Optoelectronic
ISBN
978-954-92600-3-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Název nakladatele
WSEAS EUROPMENT Press
Místo vydání
Sofia
Místo konání akce
Catania
Datum konání akce
29. 5. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—