Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F14%3A00434912" target="_blank" >RIV/68081731:_____/14:00434912 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf

Popis výsledku v původním jazyce

Spolehlivost zápisu rozsáhlých struktur pomocí elektronového litografu je do velké míry závislá na přesném řízení polohy posuvného stolku se substrátem. Typicky je pro tuto úlohu využíváno optického odměřování pomocí laserových interferometrů, které poskytuje požadovanou úroveň přesnosti. Této přesnosti dosahuje za cenu využití složité optické sestavy, která díky nárokům na přesnost a robustnost v důsledku představuje netriviální navýšení ceny elektronového litografu jako výsledného produktu. V rámci spolupráce jsme se zaměřili na návrh a ověření optimalizovaného měřicího systému, který poskytne srovnatelnou přesnost a zároveň bude robustnější a cenově efektivnější. Jádrem optimalizace je v zásadě přesun zpracování interferenčního signálu z optické oblasti do oblasti výpočetní. V našem případě se jedná zejména o využití alternativní interferometrické detekční techniky, která využívá kontinuálně frekvenčně modulovaný laserový zdroj v kombinaci se zjednodušeným optickým systém. Výstupem

Název v anglickém jazyce

Interferometric measurement system for cost effective e-beam writer

Popis výsledku anglicky

The reliability of nanometer track writing in the large scale chip manufacturing process depends mainly on a precise positioning of the e-beam writer moving stage. The laser interferometers are usually employed to control this positioning, but their complicated optical scheme leads to an expensive instrument which increases the e-beam writer?s manufacturing costs. We present a new design of an interferometric system useful in a currently developed cost effective e-beam writers. Our approach simplifies the optical scheme of known industrial interferometers and shifts the interference phase detection complexity from optical domain to the digital signal processing part. Besides the effective cost, the low number of optical components minimizes the total uncertainty of this measuring instrument. The scheme consists of a single wavelength DFB laser working at 1550 nm, one beam splitter, measuring and reference reflectors and one photo-detector at the interferometer output. The DFB laser is

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Sborník příspěvků multioborové konference Laser54

ISBN

978-80-87441-13-8

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

65-66

Název nakladatele

Ústav přístrojové techniky AV ČR

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Třešť

Datum konání akce

29. 10. 2014

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—