Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Automated System for Optical Inspection of Defects in Resist-coated Non-patterned Wafer

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F20%3A00532029" target="_blank" >RIV/68081731:_____/20:00532029 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://journals.yu.edu.jo/jjp/JJPIssues/Vol13No2pdf2020/1.html" target="_blank" >http://journals.yu.edu.jo/jjp/JJPIssues/Vol13No2pdf2020/1.html</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.47011/13.2.1" target="_blank" >10.47011/13.2.1</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Automated System for Optical Inspection of Defects in Resist-coated Non-patterned Wafer

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Quality control of the resist coating on a silicon wafer is one of the major tasks prior to the exposition of patterns into the resist layer. Thus, the ability to inspect and identify the physical defect in the resist layer plays an important role. The absence of any unwanted defect in resist is an ultimate requirement for preparation of precise and functional micro- or nano-patterned surfaces. Currently used wafer inspection systems are mostly utilized in semiconductor or microelectronic industry to inspect non-patterned or patterned wafers (integrated circuits, photomasks,. etc.) in order to achieve high yield production. Typically, they are based on acoustic micro-imaging, optical imaging or electron microscopy. This paper presents the design of a custom optical-based inspection device for small batch lithography production that allows scanning a wafer surface with an optical camera and by analyzing the captured images to determine the coordinates (X, Y), the size and the type of the defects in the resist layer. In addition, software responsible for driving the scanning device and for advanced image processing is presented.

  • Název v anglickém jazyce

    Automated System for Optical Inspection of Defects in Resist-coated Non-patterned Wafer

  • Popis výsledku anglicky

    Quality control of the resist coating on a silicon wafer is one of the major tasks prior to the exposition of patterns into the resist layer. Thus, the ability to inspect and identify the physical defect in the resist layer plays an important role. The absence of any unwanted defect in resist is an ultimate requirement for preparation of precise and functional micro- or nano-patterned surfaces. Currently used wafer inspection systems are mostly utilized in semiconductor or microelectronic industry to inspect non-patterned or patterned wafers (integrated circuits, photomasks,. etc.) in order to achieve high yield production. Typically, they are based on acoustic micro-imaging, optical imaging or electron microscopy. This paper presents the design of a custom optical-based inspection device for small batch lithography production that allows scanning a wafer surface with an optical camera and by analyzing the captured images to determine the coordinates (X, Y), the size and the type of the defects in the resist layer. In addition, software responsible for driving the scanning device and for advanced image processing is presented.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20205 - Automation and control systems

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/FV10618" target="_blank" >FV10618: Mikro a nano optika pro řízené směrování světla z LED zdrojů</a><br>

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Jordan Journal of Physics

  • ISSN

    1994-7607

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    13

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    JO - Jordánské hášimovské království

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    93-100

  • Kód UT WoS článku

    000559771600001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85091405823