Methods of the electron induced cleanning in SEM

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F21%3A00551132" target="_blank" >RIV/68081731:_____/21:00551132 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://www.cambridge.org/core/journals/microscopy-and-microanalysis/article/methods-of-the-electron-induced-cleanning-in-sem/54D0340450B8B0BEA7DAD306BCE1C21B" target="_blank" >https://www.cambridge.org/core/journals/microscopy-and-microanalysis/article/methods-of-the-electron-induced-cleanning-in-sem/54D0340450B8B0BEA7DAD306BCE1C21B</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Methods of the electron induced cleanning in SEM
Popis výsledku v původním jazyce
A special technique was developed and tested to clean the specimen and to do the imaging of the individual graphene layers, or other 2D materials, in the standard vacuum conditions of the conventional SEM. Parameters such as the primary electron beam energy, electron dose, sample bias, and scanning rate have been optimized to find the equilibrium between electron stimulated desorption (cleaning) and deposition (contamination).
Název v anglickém jazyce
Methods of the electron induced cleanning in SEM
Popis výsledku anglicky
A special technique was developed and tested to clean the specimen and to do the imaging of the individual graphene layers, or other 2D materials, in the standard vacuum conditions of the conventional SEM. Parameters such as the primary electron beam energy, electron dose, sample bias, and scanning rate have been optimized to find the equilibrium between electron stimulated desorption (cleaning) and deposition (contamination).

Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)