Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F24%3A00575340" target="_blank" >RIV/68081731:_____/24:00575340 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě
Popis výsledku v původním jazyce
Vzorek, obsahující sadu kalibračních obrazců a periodických mřížek. Design kalibračních struktur je připraven na základě funkčních potřeb pro metrologické a kalibrační operace. Při návrhu byl brán ohled také na možností litografických technik a dalších technologických operacích, které byly pro přípravu kalibračního preparátu vyvíjeny. Funkční vzorek má formu křemíkového čipu a obsahuje binární strukturu realizovanou v tenké vrstvě připravenou pomocí elektronové litografie a depoziční technikou (PVD). Součástí je dokumentace popisující design kalibračních struktur a obrazové podklady obsahující výstupy z měření vzorku na AFM, SEM a konfokálním mikroskopu.
Název v anglickém jazyce
Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer
Popis výsledku anglicky
A sample containing a set of calibration patterns and periodic grids. The design of the calibration structures is based on the functional needs for metrology and calibration operations. The design also took into account the capabilities of lithographic techniques and other technological operations that were developed for the preparation of the calibration pattern. The functional sample is in the form of a silicon chip and contains a binary structure realized in a thin film prepared by electron beam lithography and deposition (PVD) techniques. Documentation describing the design of the calibration structures and images containing the output of the sample measurements on AFM, SEM and confocal microscope are included.
Klasifikace
Druh
G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek
CEP obor
—
OECD FORD obor
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/FW03010504" target="_blank" >FW03010504: Vývoj in-situ technik pro charakterizaci materiálů a nanostruktur</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2024
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
APL-2024-01
Číselná identifikace
—
Technické parametry
Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Ekonomické parametry
Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
68081731
Název vlastníka
Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Požadavek na licenční poplatek
—
Adresa www stránky s výsledkem
—