Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F00%3A02030543" target="_blank" >RIV/68378271:_____/00:02030543 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide.
Popis výsledku v původním jazyce
The escape probability as a function of depth of origin for the S 2s photoelectrons exhibits non-monotonic beahviour, with a maximum at a depth of 0.6-0.8 nm.
Název v anglickém jazyce
Measurements of escape probability of photoelectrons and the inelastic mean free path in silver sulphide.
Popis výsledku anglicky
The escape probability as a function of depth of origin for the S 2s photoelectrons exhibits non-monotonic beahviour, with a maximum at a depth of 0.6-0.8 nm.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2000
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Interface Analysis
ISSN
0142-2421
e-ISSN
—
Svazek periodika
30
Číslo periodika v rámci svazku
N/A
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
222-227
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—