Mechanizm of the film composition formation durind magnetron sputtering of WTi.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A02010294" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:02010294 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Mechanizm of the film composition formation durind magnetron sputtering of WTi.
Popis výsledku v původním jazyce
The WTi films were deposited by an unbalanced magnetron sputtering of WTi (70>30 at. ) alloy target. The influence of the working gas (Ar) pressure, substrate bias and substrate location on the composition of films and on the flux of atoms and ions towards a substrate and the target was studied using EPMA, RBS, quadrupole mass spectrometry etc.
Název v anglickém jazyce
Mechanizm of the film composition formation durind magnetron sputtering of WTi.
Popis výsledku anglicky
The WTi films were deposited by an unbalanced magnetron sputtering of WTi (70>30 at. ) alloy target. The influence of the working gas (Ar) pressure, substrate bias and substrate location on the composition of films and on the flux of atoms and ions towards a substrate and the target was studied using EPMA, RBS, quadrupole mass spectrometry etc.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)