Pulsed laser deposition of CN x films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F02%3A02020217" target="_blank" >RIV/68378271:_____/02:02020217 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Pulsed laser deposition of CN x films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation.
Popis výsledku v původním jazyce
Thin CN x films were deposited by pulsed laser deposition equipped with KrF excimer laser. An additional radio-frequemcy discharge of the nitrogen gas was appled.The role of atomic nitrogen in CN radical formation was studied using emission spectroscopy.The composition of the films was measured by WDX. The N/C ratio of all films was approximately 1 and did not vary with N pressure.
Název v anglickém jazyce
Pulsed laser deposition of CN x films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation.
Popis výsledku anglicky
Thin CN x films were deposited by pulsed laser deposition equipped with KrF excimer laser. An additional radio-frequemcy discharge of the nitrogen gas was appled.The role of atomic nitrogen in CN radical formation was studied using emission spectroscopy.The composition of the films was measured by WDX. The N/C ratio of all films was approximately 1 and did not vary with N pressure.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/LN00A015" target="_blank" >LN00A015: Výzkumné centrum pro optiku</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2002
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)