Composition and energy of the flux of positive and negative ions during reactive magnetron sputter deposition of Ti-C:H films.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A02030166" target="_blank" >RIV/68378271:_____/03:02030166 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Composition and energy of the flux of positive and negative ions during reactive magnetron sputter deposition of Ti-C:H films.
Popis výsledku v původním jazyce
In the present paper the investigation of the energy and composition of the positive and negative ion flux towards a substrate during reactive magnetron sputter-deposition of Ti-C:H films is reported.The energy distributions, mass spectra fluxes of the positive and negative ions were measured for various compositions and total pressure of the working mixture.
Název v anglickém jazyce
Composition and energy of the flux of positive and negative ions during reactive magnetron sputter deposition of Ti-C:H films.
Popis výsledku anglicky
In the present paper the investigation of the energy and composition of the positive and negative ion flux towards a substrate during reactive magnetron sputter-deposition of Ti-C:H films is reported.The energy distributions, mass spectra fluxes of the positive and negative ions were measured for various compositions and total pressure of the working mixture.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)