Studie tenkých TiCxN1-x vrstev vyrobených hybridní magnetron-laserovou depozicí

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00041223" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00041223 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Study of thin TiCxN1-x films fabricated by hybrid magnetron-laser deposition

Popis výsledku v původním jazyce

Titanium-carbonitride thin films were grown at room temperature using a hybrid deposition arrangement combining DC magnetron sputtering and KrF pulsed laser deposition (MSPLD). Carbon and titanium were simultaneously deposited an the same Si substrate dimensions of 3 x 3 cm. Films were fabricated in argon-nitrogen atmosphere of 1 Pa - 5 Pa, for laser fluence of Jcm-2 and magnetron power of 150 W. Film properties were modified by RF discharge held between the target and substrate. Film crystallinity wasstudied by XRD and the composition depth profile of TiCN layers by glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES).

Název v anglickém jazyce

Study of thin TiCxN1-x films fabricated by hybrid magnetron-laser deposition

Popis výsledku anglicky

Titanium-carbonitride thin films were grown at room temperature using a hybrid deposition arrangement combining DC magnetron sputtering and KrF pulsed laser deposition (MSPLD). Carbon and titanium were simultaneously deposited an the same Si substrate dimensions of 3 x 3 cm. Films were fabricated in argon-nitrogen atmosphere of 1 Pa - 5 Pa, for laser fluence of Jcm-2 and magnetron power of 150 W. Film properties were modified by RF discharge held between the target and substrate. Film crystallinity wasstudied by XRD and the composition depth profile of TiCN layers by glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES).

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/IAA1010110" target="_blank" >IAA1010110: Nové laserové hybridní technologie pro depozici tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceeding of SPIE - Int. Connference on Lasers, Applications, and Technologies 2005. Laser-Assisted Micro- and Nanotechnologies

ISBN

0-8194-6213-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Název nakladatele

SPIE

Místo vydání

Bellingham

Místo konání akce

Prague

Datum konání akce

8. 6. 2005

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—