Tvrdost nanokompozitních vrstev a-C:Si deponovaných magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00096427" target="_blank" >RIV/68378271:_____/07:00096427 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

Hydrogen-free a-C:Si films with Si concentration from 3 to 70 at.% were prepared by magnetron co-sputtering of pure graphite and silicon targets.Mechanical properties (hardness, intrinsic stress), film composition (EPMA and XPS) and film structure (electron diffraction, Raman spectra) were investigated in dependence on Si concentration, substrate bias and deposition temperature. The film hardness was maximal for -45 at.% of Si and deposition temperatures 600 and 800 °C. Reflection electron diffraction indicated an amorphous structure of prepared films.Raman spectra showed that the films in the range of 35 - 70 at.% of Si always contain three bands corresponding to the Si, SiC and C clusters

Název v anglickém jazyce

Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

Hydrogen-free a-C:Si films with Si concentration from 3 to 70 at.% were prepared by magnetron co-sputtering of pure graphite and silicon targets.Mechanical properties (hardness, intrinsic stress), film composition (EPMA and XPS) and film structure (electron diffraction, Raman spectra) were investigated in dependence on Si concentration, substrate bias and deposition temperature. The film hardness was maximal for -45 at.% of Si and deposition temperatures 600 and 800 °C. Reflection electron diffraction indicated an amorphous structure of prepared films.Raman spectra showed that the films in the range of 35 - 70 at.% of Si always contain three bands corresponding to the Si, SiC and C clusters

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Svazek periodika

16

Číslo periodika v rámci svazku

-

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

167-173

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—