Mechanické vlastnosti amorfních a mikrokrystalických křemíkových vrstev
Popis výsledku
Filmy amorfního křemíku (a-Si) byly připraveny magnetronovým naprašováním čistého křemíku. Mechanické vlastnosti (Tvrdost, vnitřní pnutí, elastický modul) a struktura filmu (Ramanova spektra, elektronová difrakce) byla zkoumána v závislosti na teplotě substrátu a "bias". Vzrůst negativního "bias" nebo tlaku Ar vede k současné redukci vnitřních pnutí, tvrdosti a elastického modulu. Krystalická struktura (c-Si) se začíná formovat při depoziční teplotě 700 °C. Tvrdost a elastický modul c-Si filmů se blížímonokrystalickému křemíku (111). Pozorovaná fázová transformace při indentaci nezávisí jen na zátěžné síle a její rychlosti rástu, ale též na původní fázi Si. Tvrdost těchto filmů není však výrazně citlivá na tutu fázovou transformaci.
Klíčová slova
a-Si filmshardnesselastic moduluscompressive stressRaman spectra
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61989592:15310/08:00005881
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Mechanical properties of amorphous and microcrystalline silicon films
Popis výsledku v původním jazyce
Hydrogen-free amorphous silicon (a-Si) films were prepared by magnetron sputtering of pure silicon. Mechanical properties (hardness, intrinsic stress, elastic modulus), and film structure (Raman spectra, electron diffraction) were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. The increasing negative substrate bias or Ar pressure results in simultaneous reducing compressive stress, the film hardness and elastic modulus. The crystalline structure (c-Si) starts to be formed at deposition temperature of 700 °C. The hardness and elastic modulus of c-Si films were very close to monocrystalline Si(111). Phase transformations observed in the samples at indentation depend not only on the load and loading rate but also on the initial phase ofsilicon. However, the film hardness is not too sensitive to the presence of phase transformations.
Název v anglickém jazyce
Mechanical properties of amorphous and microcrystalline silicon films
Popis výsledku anglicky
Hydrogen-free amorphous silicon (a-Si) films were prepared by magnetron sputtering of pure silicon. Mechanical properties (hardness, intrinsic stress, elastic modulus), and film structure (Raman spectra, electron diffraction) were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. The increasing negative substrate bias or Ar pressure results in simultaneous reducing compressive stress, the film hardness and elastic modulus. The crystalline structure (c-Si) starts to be formed at deposition temperature of 700 °C. The hardness and elastic modulus of c-Si films were very close to monocrystalline Si(111). Phase transformations observed in the samples at indentation depend not only on the load and loading rate but also on the initial phase ofsilicon. However, the film hardness is not too sensitive to the presence of phase transformations.
Klasifikace
Druh
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
516
Číslo periodika v rámci svazku
16
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000257452200046
EID výsledku v databázi Scopus
—
Základní informace
Druh výsledku
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Rok uplatnění
2008