Tvrdost a modul pružnosti amorfních a nanokrystalických filmů SiC a Si

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00307730" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00307730 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/61989592:15310/08:00007691

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Hardness and elastic modulus of amorphous and nanocrystalline SiC and Si films

Popis výsledku v původním jazyce

Hydrogen-free amorphous and nanocrystalline films were prepared by magnetron sputtering of the SiC or Si targets. Mechanical properties (hardness, elastic modulus, intrinsic stress) and film structures were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. It was found that both hardness and elastic modulus of all amorphous a-SiC films prepared at different substrate temperatures and biases are always lower than those for bulk ?-SiC single crystal while the hardness of partially crystalline SiC films is higher and the elastic modulus lower than those for ?-SiC one. In contrast, both hardness and elastic modulus of all amorphous Si films are always lower than those for nanocrystalline Si films which show approximately the same value as the Si single crystal.

Název v anglickém jazyce

Hardness and elastic modulus of amorphous and nanocrystalline SiC and Si films

Popis výsledku anglicky

Hydrogen-free amorphous and nanocrystalline films were prepared by magnetron sputtering of the SiC or Si targets. Mechanical properties (hardness, elastic modulus, intrinsic stress) and film structures were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. It was found that both hardness and elastic modulus of all amorphous a-SiC films prepared at different substrate temperatures and biases are always lower than those for bulk ?-SiC single crystal while the hardness of partially crystalline SiC films is higher and the elastic modulus lower than those for ?-SiC one. In contrast, both hardness and elastic modulus of all amorphous Si films are always lower than those for nanocrystalline Si films which show approximately the same value as the Si single crystal.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

202

Číslo periodika v rámci svazku

-

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

1738-1745

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—