Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Low pressure plasma-jet systems and their application for deposition of ceramic thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00097890" target="_blank" >RIV/68378271:_____/07:00097890 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Low pressure plasma-jet systems and their application for deposition of ceramic thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We applied the single and the double hollow cathode plasma jet systems for deposition of BaxSr1-xTiO3 (BSTO) thin films on Si and on multi-layer Si/SiO2/TiO2/Pt substrates. Two ceramic inserts in a single nozzle or two separate nozzles made of BaTiO3 andSrTiO3 ceramics were reactively sputtered in the RF modulated plasma jet. Plasma parameters were determined by time-resolved measurements. Electron density and electron effective temperature at the substrate position were determined by Langmuir probe technique, temperature of neutral particles and ratio of sputtered atoms were estimated by optical emission spectroscopy. Measured electron concentration reached value 2x1016 m-3 during the active part of the duty cycle and resulting effective electron temperature was approximately 5 eV. High correlation between ratio of spectral intensity of Ba and Sr lines and ratio of Ba and Sr atoms in BSTO thin film was observed. XRD diffraction confirmed presence of BSTO and STO perovskite phase.

  • Název v anglickém jazyce

    Low pressure plasma-jet systems and their application for deposition of ceramic thin films

  • Popis výsledku anglicky

    We applied the single and the double hollow cathode plasma jet systems for deposition of BaxSr1-xTiO3 (BSTO) thin films on Si and on multi-layer Si/SiO2/TiO2/Pt substrates. Two ceramic inserts in a single nozzle or two separate nozzles made of BaTiO3 andSrTiO3 ceramics were reactively sputtered in the RF modulated plasma jet. Plasma parameters were determined by time-resolved measurements. Electron density and electron effective temperature at the substrate position were determined by Langmuir probe technique, temperature of neutral particles and ratio of sputtered atoms were estimated by optical emission spectroscopy. Measured electron concentration reached value 2x1016 m-3 during the active part of the duty cycle and resulting effective electron temperature was approximately 5 eV. High correlation between ratio of spectral intensity of Ba and Sr lines and ratio of Ba and Sr atoms in BSTO thin film was observed. XRD diffraction confirmed presence of BSTO and STO perovskite phase.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Optoelectronics and Advanced Materials

  • ISSN

    1454-4164

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    9

  • Číslo periodika v rámci svazku

    4

  • Stát vydavatele periodika

    RO - Rumunsko

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    875-880

  • Kód UT WoS článku

    000245834800017

  • EID výsledku v databázi Scopus