Tenké SiCx vrstvy připravené hybridní laser-magnetronovou deposicí

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00316448" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00316448 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21460/08:12148102
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Thin SiCx layers prepared by hybrid laser-magnetron deposition
Popis výsledku v původním jazyce
Thin SiCx films were fabricated by hybrid laser-magnetron deposition systems.KrF excimer laser was used for deposition of carbon and magnetron at the same time for sputtering of Si species. Films topology,crystallinity,composition, chemical bonds and optical emission spectra were studied. Films were smooth and amorphous.
Název v anglickém jazyce
Thin SiCx layers prepared by hybrid laser-magnetron deposition
Popis výsledku anglicky
Thin SiCx films were fabricated by hybrid laser-magnetron deposition systems.KrF excimer laser was used for deposition of carbon and magnetron at the same time for sputtering of Si species. Films topology,crystallinity,composition, chemical bonds and optical emission spectra were studied. Films were smooth and amorphous.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F06%2F0216" target="_blank" >GA202/06/0216: Studium plazmatu vznikajícího při hybridní modifikaci pulzní laserové depozice</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)