Characterization and optical properties of TiO2 prepared by pulsed laserdeposition

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F10%3A00366495" target="_blank" >RIV/68378271:_____/10:00366495 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Characterization and optical properties of TiO2 prepared by pulsed laserdeposition

Popis výsledku v původním jazyce

The contribution reports on fabrication and characterization of TiO2 thin films on Si substrate. The TiO2 thin films are used for photonic devices in optical communication systems. The most important parameter for the waveguide structures is the refractive index. The crystalline TiO2 polymorphs can have different refractive index depending on the structure phase, which is technology dependent. The waveguide structures was prepared by pulsed laser deposition using 248 nm KrF laser source and targets of Ti or rutile in oxygen atmosphere. The optical characterization were done using spectroscopic ellipsometry providing the information about electron band gap values and determining the optical parameters (thickness and refractive index) of prepared TiO2 thin films. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and secondary electron microscopy (SEM) was done to verify the vertical and chemical structure.

Název v anglickém jazyce

Characterization and optical properties of TiO2 prepared by pulsed laserdeposition

Popis výsledku anglicky

The contribution reports on fabrication and characterization of TiO2 thin films on Si substrate. The TiO2 thin films are used for photonic devices in optical communication systems. The most important parameter for the waveguide structures is the refractive index. The crystalline TiO2 polymorphs can have different refractive index depending on the structure phase, which is technology dependent. The waveguide structures was prepared by pulsed laser deposition using 248 nm KrF laser source and targets of Ti or rutile in oxygen atmosphere. The optical characterization were done using spectroscopic ellipsometry providing the information about electron band gap values and determining the optical parameters (thickness and refractive index) of prepared TiO2 thin films. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and secondary electron microscopy (SEM) was done to verify the vertical and chemical structure.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/MEB0810156" target="_blank" >MEB0810156: Oxidy na fotonické a biokompatibilní senzorické aplikacre</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

ASDAM 2010-Conference Proceedings-The Eighth International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems

ISBN

978-1-4244-8575-8

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

301-304

Název nakladatele

IEEE

Místo vydání

Piscataway

Místo konání akce

Smolenice

Datum konání akce

25. 10. 2010

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—