Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Magnetism in GaN layers implanted by La, Gd, Dy and Lu

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F11%3A00365408" target="_blank" >RIV/68378271:_____/11:00365408 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/61389005:_____/11:00365408 RIV/60461373:22310/11:43892063

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.04.110" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.04.110</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.04.110" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2011.04.110</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Magnetism in GaN layers implanted by La, Gd, Dy and Lu

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We present a complex study of rare earth elements implanted GaN layers grown by low pressure metalorganic vapor phase epitaxy on c-plane sapphire substrates. Gd, Dy, La and Lu ions were implanted with energies of 200 key and doses ranging from 5 x 10(13)to 4 x 10(17) atoms.cm(-2). The chemical composition and concentration profiles of ion-implanted layers were studied by secondary ion mass spectrometry and Rutherford back scattering. The structural properties of the layers were characterized by Rutherford back scattering/channeling and X-ray diffraction reciprocal space mapping.

  • Název v anglickém jazyce

    Magnetism in GaN layers implanted by La, Gd, Dy and Lu

  • Popis výsledku anglicky

    We present a complex study of rare earth elements implanted GaN layers grown by low pressure metalorganic vapor phase epitaxy on c-plane sapphire substrates. Gd, Dy, La and Lu ions were implanted with energies of 200 key and doses ranging from 5 x 10(13)to 4 x 10(17) atoms.cm(-2). The chemical composition and concentration profiles of ion-implanted layers were studied by secondary ion mass spectrometry and Rutherford back scattering. The structural properties of the layers were characterized by Rutherford back scattering/channeling and X-ray diffraction reciprocal space mapping.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Thin Solid Films

  • ISSN

    0040-6090

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    519

  • Číslo periodika v rámci svazku

    18

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    6120-6125

  • Kód UT WoS článku

    000292576500049

  • EID výsledku v databázi Scopus