Damage to dry plasmid DNA induced by nanosecond XUV-laser pulses

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F11%3A00372421" target="_blank" >RIV/68378271:_____/11:00372421 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Damage to dry plasmid DNA induced by nanosecond XUV-laser pulses
Popis výsledku v původním jazyce
We have studied the nature of DNA damage induced directly by the pulsed 46.9 nm radiation provided by a capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL). Different surface doses were delivered with a repetition rate of a few Hz and an average pulse energy similar to 1 mu J. A simple model DNA molecule, i.e., dried closed-circular plasmid DNA (pBR322), was irradiated. The agarose gel electrophoresis method was used for determination of both SSB and DSB yields.
Název v anglickém jazyce
Damage to dry plasmid DNA induced by nanosecond XUV-laser pulses
Popis výsledku anglicky
We have studied the nature of DNA damage induced directly by the pulsed 46.9 nm radiation provided by a capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL). Different surface doses were delivered with a repetition rate of a few Hz and an average pulse energy similar to 1 mu J. A simple model DNA molecule, i.e., dried closed-circular plasmid DNA (pBR322), was irradiated. The agarose gel electrophoresis method was used for determination of both SSB and DSB yields.

Projekt
<a href="/cs/project/ME10046" target="_blank" >ME10046: Radiačně chemické aplikace repetičního kapilárního XUV laseru: povrchy pevných látek</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)