Effect of air annealing on mechanical properties and structure of SiCxNy magnetron sputtered films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00427277" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00427277 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/61989592:15310/14:33153072

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.12.017" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.12.017</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.12.017" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2013.12.017</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Effect of air annealing on mechanical properties and structure of SiCxNy magnetron sputtered films

Popis výsledku v původním jazyce

Amorphous SiCxNy films (of 2.2?2.7 ?m) were deposited on Si(111) substrates by reactive DC magnetron sputtering. The SiC target with small excess of carbon was sputtered at various nitrogen/argon gas flow ratios (0?0.48).The as-deposited films were additionally annealed at temperatures of 700, 900 and 1100 °C in the air during 30 min and at 900 °C in vacuum during 1 h. The depth profile of hardness and elastic modulus (nanoindentation), change of the film thickness, film composition and structure (Ramanand Infrared spectroscopy) were investigated in dependence on annealing temperature and content of nitrogen. The hardness of the as-deposited films decreases with the growth of nitrogen/argon flow ratio.Air annealing at 1100 °C leads to intensive surface oxidation and formation of graphite-like structure in carbon clusters of inner layers.

Název v anglickém jazyce

Effect of air annealing on mechanical properties and structure of SiCxNy magnetron sputtered films

Popis výsledku anglicky

Amorphous SiCxNy films (of 2.2?2.7 ?m) were deposited on Si(111) substrates by reactive DC magnetron sputtering. The SiC target with small excess of carbon was sputtered at various nitrogen/argon gas flow ratios (0?0.48).The as-deposited films were additionally annealed at temperatures of 700, 900 and 1100 °C in the air during 30 min and at 900 °C in vacuum during 1 h. The depth profile of hardness and elastic modulus (nanoindentation), change of the film thickness, film composition and structure (Ramanand Infrared spectroscopy) were investigated in dependence on annealing temperature and content of nitrogen. The hardness of the as-deposited films decreases with the growth of nitrogen/argon flow ratio.Air annealing at 1100 °C leads to intensive surface oxidation and formation of graphite-like structure in carbon clusters of inner layers.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

240

Číslo periodika v rámci svazku

FEB

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

76-85

Kód UT WoS článku

000331989900011

EID výsledku v databázi Scopus

—