Effect of nitrogen content on the mechanical properties of amorphous SiCN films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F15%3A00452834" target="_blank" >RIV/68378271:_____/15:00452834 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.662.95" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.662.95</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.662.95" target="_blank" >10.4028/www.scientific.net/KEM.662.95</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect of nitrogen content on the mechanical properties of amorphous SiCN films
Popis výsledku v původním jazyce
Amorphous silicon carbonitride (a-SiCxNy) thin films were deposited using reactive magnetron sputtering of SiC target in the mixture of Ar and N gasses. The films with nitrogen content from 0 - 40 at.% were sputtered at various N2/Ar flow ratios in the range of 0 - 0.48. The as deposited films were additionally annealed in argon at 700 °C and vacuum at 900 °C. Analysis of mechanical properties was performed using the regular nanoindentation and short duration nanoindentation creep test (600 s).Hardnessof the a-SiCxNy films increases with the decrease of nitrogen content from approx. 19 GPa (a-Si30C30N40) to 22 GPa (a-SiC). Annealing of the films in inert atmosphere or vacuum leads to the increase of both the hardness and the elastic modulus. This increase is more pronounced for the SiC film than for the SiCN films. The nanoindentation creep test (600 s) showed that the rate of the steady-state creep growths with the increase of nitrogen content.
Název v anglickém jazyce
Effect of nitrogen content on the mechanical properties of amorphous SiCN films
Popis výsledku anglicky
Amorphous silicon carbonitride (a-SiCxNy) thin films were deposited using reactive magnetron sputtering of SiC target in the mixture of Ar and N gasses. The films with nitrogen content from 0 - 40 at.% were sputtered at various N2/Ar flow ratios in the range of 0 - 0.48. The as deposited films were additionally annealed in argon at 700 °C and vacuum at 900 °C. Analysis of mechanical properties was performed using the regular nanoindentation and short duration nanoindentation creep test (600 s).Hardnessof the a-SiCxNy films increases with the decrease of nitrogen content from approx. 19 GPa (a-Si30C30N40) to 22 GPa (a-SiC). Annealing of the films in inert atmosphere or vacuum leads to the increase of both the hardness and the elastic modulus. This increase is more pronounced for the SiC film than for the SiCN films. The nanoindentation creep test (600 s) showed that the rate of the steady-state creep growths with the increase of nitrogen content.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JH - Keramika, žáruvzdorné materiály a skla
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TA03010743" target="_blank" >TA03010743: Systémy akustické emise pro charakterizaci mechanických vlastností a stability tenkovrstvých struktur a funkčních povrchů</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2015
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Key Engineering Materials, Vol. 662
ISBN
978-3-03835-555-7
ISSN
1662-9795
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
95-98
Název nakladatele
Trans Tech Publications Ltd
Místo vydání
Pfafficon
Místo konání akce
Stará Lesná
Datum konání akce
12. 11. 2014
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—