Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00429387" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00429387 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61389021:_____/14:00429387
Výsledek na webu
<a href="http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
Popis výsledku v původním jazyce
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt ? sběrná elektroda ? proudový převodník - zdroj referenčního napětí ? referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém.
Název v anglickém jazyce
A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system
Popis výsledku anglicky
A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma diagnosed plasma object in the measuring system applied to the plasma chemical reactor, which is equipped with a power source connected to the discharge electrode and a reference electrode. Summary of the invention consists in the fact that after the primary parameters measuring system using current values of the reference voltage source is sensed on the collecting electrode volt -ampere characteristics of the ion current component generated power and discharges through the circuits: plasma object - a collecting electrode - current converter - voltage reference - the reference electrode from which the evaluation of the control and measuring unit fixed ion distribution function of the plasma source. Furthermore, the present invention provides a measuring system for implementing the method and structure of the probe for this measurement system.
Klasifikace
Druh
P - Patent
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TA01010517" target="_blank" >TA01010517: Moderní multivrstvé optické systémy.</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Číslo patentu nebo vzoru
304493
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
16. 4. 2014
Název vlastníka
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence