Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00466215" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00466215 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Popis výsledku v původním jazyce
Technické řešení spadá do oblasti aplikace technologických postupů při vytváření tenkých vrstev, zejména čistých kovů, jejich oxidů, nitridů či dalších sloučenin, na povrchu substrátu a týká se zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému při využití plazmochemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Řešení je uzpůsobeno zejména ve spojení s uplatněním technologií plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě hořící v režimu HCA (Hollow Cathode Arc).
Název v anglickém jazyce
Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system
Popis výsledku anglicky
Technical solution belongs to area of application of technological processes for deposition of thin films, namely pure metals, their oxides, nitrides or other compounds on the substrate surface and is focused on device for controlling the deposition of thin films by vacuum multi-plasma-jet system using plasma chemical reactions in the active zone of generated discharge. Solution is adapted particularly in connection with the technology of the plasma jet working on the principle of hollow cathode discharge burning in HCA regime(Hollow Cathode Arc).

Projekt
<a href="/cs/project/TF01000084" target="_blank" >TF01000084: Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru
30018
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
—
Název vlastníka
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Podobné výsledky(10)