Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Exploring silicon carbide- and silicon oxide-based layer stacks for passivating contacts to silicon solar cells

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00511249" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00511249 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/PVSC.2017.8366518" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/PVSC.2017.8366518</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/PVSC.2017.8366518" target="_blank" >10.1109/PVSC.2017.8366518</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Exploring silicon carbide- and silicon oxide-based layer stacks for passivating contacts to silicon solar cells

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We present the development of passivating contacts for high-efficiency silicon solar cells using silicon oxide (SiOx) and silicon carbide (SiCx)-based layers. We discuss a comprehensive optimization of a SiCx-based passivating hole contact reaching implied open circuit voltages >715 mV. In addition, we introduce a passivating hole contact based on nanocrystalline SiOx (nc-SiOx) targeting compatibility with higher process temperatures as well as increased optical transparency for front side application.

  • Název v anglickém jazyce

    Exploring silicon carbide- and silicon oxide-based layer stacks for passivating contacts to silicon solar cells

  • Popis výsledku anglicky

    We present the development of passivating contacts for high-efficiency silicon solar cells using silicon oxide (SiOx) and silicon carbide (SiCx)-based layers. We discuss a comprehensive optimization of a SiCx-based passivating hole contact reaching implied open circuit voltages >715 mV. In addition, we introduce a passivating hole contact based on nanocrystalline SiOx (nc-SiOx) targeting compatibility with higher process temperatures as well as increased optical transparency for front side application.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    IEEE Photovoltaics Specialists Conference (PVSC 2017) /44./

  • ISBN

    978-1-5090-5605-7

  • ISSN

    0160-8371

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

    2073-2075

  • Název nakladatele

    IEEE

  • Místo vydání

    New York

  • Místo konání akce

    Washington, DC

  • Datum konání akce

    25. 6. 2017

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000455636002020