MAPS sensor for radiation imaging designed in 180 nm SOI CMOS technology
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F18%3A00501816" target="_blank" >RIV/68378271:_____/18:00501816 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21340/18:00324690
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/13/06/C06004" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/13/06/C06004</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/13/06/C06004" target="_blank" >10.1088/1748-0221/13/06/C06004</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
MAPS sensor for radiation imaging designed in 180 nm SOI CMOS technology
Popis výsledku v původním jazyce
In thiswork, we present a prototype of the MonolithicActive Pixel Sensor (MAPS) called X-CHIP-02 designed in 180 nm SOI CMOS technology. The selected technology has attractive features for fabrication of X-ray imaging sensors: 100 Omega.cm handle wafer resistivity, thick epitaxial layer to suppress back-gate effect, support of high voltage devices and deep trench isolation. X-CHIP-02 has two pixel matrices with the pixel pitch of 50 mu m and 100 mu m with integrated 8-bit photon counting circuitry. Fine pitch SOI monolithic pixels imply small capacitance and thus small electronic noise of approximate to 50 e(-). Design of the sensor chip and basic radiation imaging capabilities are described in this paper.
Název v anglickém jazyce
MAPS sensor for radiation imaging designed in 180 nm SOI CMOS technology
Popis výsledku anglicky
In thiswork, we present a prototype of the MonolithicActive Pixel Sensor (MAPS) called X-CHIP-02 designed in 180 nm SOI CMOS technology. The selected technology has attractive features for fabrication of X-ray imaging sensors: 100 Omega.cm handle wafer resistivity, thick epitaxial layer to suppress back-gate effect, support of high voltage devices and deep trench isolation. X-CHIP-02 has two pixel matrices with the pixel pitch of 50 mu m and 100 mu m with integrated 8-bit photon counting circuitry. Fine pitch SOI monolithic pixels imply small capacitance and thus small electronic noise of approximate to 50 e(-). Design of the sensor chip and basic radiation imaging capabilities are described in this paper.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10304 - Nuclear physics
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Instrumentation
ISSN
1748-0221
e-ISSN
—
Svazek periodika
13
Číslo periodika v rámci svazku
6
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000435599500001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85049687196