Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

A comparative study of the TID radiation effects on ASICs manufactured in 180 nm commercial technologies

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F18%3A00519329" target="_blank" >RIV/68378271:_____/18:00519329 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68407700:21340/18:00327024

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1088/1748-0221/13/12/c12003" target="_blank" >https://doi.org/10.1088/1748-0221/13/12/c12003</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/13/12/C12003" target="_blank" >10.1088/1748-0221/13/12/C12003</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    A comparative study of the TID radiation effects on ASICs manufactured in 180 nm commercial technologies

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The presented study compares the effects of ionizing radiation on circuit structures manufactured in a 180 nm bulk CMOS and 180 nm SoI MOS technology. Ahigh-flux Co-60 medical radiation source with a dose rate of 460 Gy.min(-1) was used. The specimens under irradiation were placed in a Pb/Al enclosure providing an approximate electron equilibrium. Besides the analog and digital circuits, the ASICs also contain transistor test structures for direct study of irradiation effects upon electronics. The integral characteristics of current consumption, shifts in transistor threshold voltage and leakage current increase observations have been made. The SoI technology was shown to be several orders of magnitude more sensitive to TID effects, but during irradiation, its properties had a tendency to return to normal.

  • Název v anglickém jazyce

    A comparative study of the TID radiation effects on ASICs manufactured in 180 nm commercial technologies

  • Popis výsledku anglicky

    The presented study compares the effects of ionizing radiation on circuit structures manufactured in a 180 nm bulk CMOS and 180 nm SoI MOS technology. Ahigh-flux Co-60 medical radiation source with a dose rate of 460 Gy.min(-1) was used. The specimens under irradiation were placed in a Pb/Al enclosure providing an approximate electron equilibrium. Besides the analog and digital circuits, the ASICs also contain transistor test structures for direct study of irradiation effects upon electronics. The integral characteristics of current consumption, shifts in transistor threshold voltage and leakage current increase observations have been made. The SoI technology was shown to be several orders of magnitude more sensitive to TID effects, but during irradiation, its properties had a tendency to return to normal.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10303 - Particles and field physics

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Instrumentation

  • ISSN

    1748-0221

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    13

  • Číslo periodika v rámci svazku

    12

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    1-10

  • Kód UT WoS článku

    000452462800002

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85059889718