Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Radiation hardness evaluation of the commercial 150 nm CMOS process using 60Co source

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F14%3A00225863" target="_blank" >RIV/68407700:21340/14:00225863 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/9/06/C06005" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/9/06/C06005</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/9/06/C06005" target="_blank" >10.1088/1748-0221/9/06/C06005</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Radiation hardness evaluation of the commercial 150 nm CMOS process using 60Co source

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We present a study of radiation effects on MOSFET transistors irradiated with a 60Co source to a total absorbed dose of 1.5 Mrad. The transistor test structures were manufactured using a commercial 150 nm CMOS process and are composed of transistors of different types (NMOS and PMOS), dimensions and insulation from the bulk material by means of deep n-wells. We have observed a degradation of electrical characteristics of both PMOS and NMOS transistors, namely a large increase of the leakage current of the NMOS transistors after irradiation.

  • Název v anglickém jazyce

    Radiation hardness evaluation of the commercial 150 nm CMOS process using 60Co source

  • Popis výsledku anglicky

    We present a study of radiation effects on MOSFET transistors irradiated with a 60Co source to a total absorbed dose of 1.5 Mrad. The transistor test structures were manufactured using a commercial 150 nm CMOS process and are composed of transistors of different types (NMOS and PMOS), dimensions and insulation from the bulk material by means of deep n-wells. We have observed a degradation of electrical characteristics of both PMOS and NMOS transistors, namely a large increase of the leakage current of the NMOS transistors after irradiation.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JB - Senzory, čidla, měření a regulace

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/TE01020069" target="_blank" >TE01020069: Progresívní detekční systémy ionizujícího záření</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2014

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Journal of Instrumentation

  • ISBN

  • ISSN

    1748-0221

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    1-8

  • Název nakladatele

    IOP Publishing Ltd

  • Místo vydání

    Bristol

  • Místo konání akce

    Paris

  • Datum konání akce

    23. 7. 2013

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000340036400005