Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous substoichiometric silicon carbide with low carbon content deposited at high temperature on semi-transparent boron-doped diamond
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F19%3A00511336" target="_blank" >RIV/68378271:_____/19:00511336 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1002/pssa.201900241" target="_blank" >https://doi.org/10.1002/pssa.201900241</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201900241" target="_blank" >10.1002/pssa.201900241</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous substoichiometric silicon carbide with low carbon content deposited at high temperature on semi-transparent boron-doped diamond
Popis výsledku v původním jazyce
Hydrogenated amorphous substoichiometric silicon carbide (a-Si1-xCx:H) thin films and diodes with low carbon content were prepared from a mixture of H2, SiH4 and CH4 by plasma enhanced chemical vapour deposition at a relatively high temperature of 450C on semi-transparent conductive boron-doped nanocrystalline diamond (B-NCD) with an underlying Ti grid. Vibration spectra indicate that CH4 prevents Si crystallization and confirms an increasing carbon content up to x=0.1 for samples grown with SiH4/CH4 flows up to 1:3. Dark current-voltage characteristics of B-NCD/a-Si1-xCx:H diodes show a rectifying ratio of about four orders at ±1 V. However, under white light illumination an energy conversion efficiency of 4% is limited by a low fill factor, the high serial resistivity of B-NCD electrode and the s-shape near the open circuit voltage.n
Název v anglickém jazyce
Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous substoichiometric silicon carbide with low carbon content deposited at high temperature on semi-transparent boron-doped diamond
Popis výsledku anglicky
Hydrogenated amorphous substoichiometric silicon carbide (a-Si1-xCx:H) thin films and diodes with low carbon content were prepared from a mixture of H2, SiH4 and CH4 by plasma enhanced chemical vapour deposition at a relatively high temperature of 450C on semi-transparent conductive boron-doped nanocrystalline diamond (B-NCD) with an underlying Ti grid. Vibration spectra indicate that CH4 prevents Si crystallization and confirms an increasing carbon content up to x=0.1 for samples grown with SiH4/CH4 flows up to 1:3. Dark current-voltage characteristics of B-NCD/a-Si1-xCx:H diodes show a rectifying ratio of about four orders at ±1 V. However, under white light illumination an energy conversion efficiency of 4% is limited by a low fill factor, the high serial resistivity of B-NCD electrode and the s-shape near the open circuit voltage.n
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Physica Status Solidi. A
ISSN
1862-6300
e-ISSN
—
Svazek periodika
216
Číslo periodika v rámci svazku
21
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
1-6
Kód UT WoS článku
000483266600001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85071032379