Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Effect of a-Si on CH3NH3PbI3 films and applications in perovskite solar cells

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F19%3A00540605" target="_blank" >RIV/68378271:_____/19:00540605 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68407700:21230/19:00340505 RIV/00216208:11320/19:10412841

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/PVSC40753.2019.8980569" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/PVSC40753.2019.8980569</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/PVSC40753.2019.8980569" target="_blank" >10.1109/PVSC40753.2019.8980569</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Effect of a-Si on CH3NH3PbI3 films and applications in perovskite solar cells

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The effect of PECVD deposition of amorphous Silicon on perovskite layers, and perovskite layers prepared on pre-deposited a-Si are investigated in the interest of determining the interaction between the two materials and developing a-Si as a material for direct integration into perovskite cells. This may include as selective contacts or carrier transport layers, an encapsulation material, or in other ways. Doped and intrinsic a-Si layers are deposited at a range of temperatures, with the resulting structures characterized by methods including photoluminescence, SEM imaging, absorption, resistivity measurements, and degradation rate. Comparisons are made to layers deposited on glass without any PECVD deposition carried out and layers subjected to heating without PECVD deposition. The implications for use of a-Si in perovskite cells are explored.n

  • Název v anglickém jazyce

    Effect of a-Si on CH3NH3PbI3 films and applications in perovskite solar cells

  • Popis výsledku anglicky

    The effect of PECVD deposition of amorphous Silicon on perovskite layers, and perovskite layers prepared on pre-deposited a-Si are investigated in the interest of determining the interaction between the two materials and developing a-Si as a material for direct integration into perovskite cells. This may include as selective contacts or carrier transport layers, an encapsulation material, or in other ways. Doped and intrinsic a-Si layers are deposited at a range of temperatures, with the resulting structures characterized by methods including photoluminescence, SEM imaging, absorption, resistivity measurements, and degradation rate. Comparisons are made to layers deposited on glass without any PECVD deposition carried out and layers subjected to heating without PECVD deposition. The implications for use of a-Si in perovskite cells are explored.n

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/EF15_003%2F0000464" target="_blank" >EF15_003/0000464: Centrum pokročilé fotovoltaiky</a><br>

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    2019 IEEE 46TH PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC)

  • ISBN

    978-1-7281-0494-2

  • ISSN

    0160-8371

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    (2019)

  • Název nakladatele

    IEEE

  • Místo vydání

    New York

  • Místo konání akce

    Chicago

  • Datum konání akce

    16. 6. 2019

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000542034900096