Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

ZnO as transparent and conductive oxide versus diamond thin films for PIN diodes based on a-SiC:H deposited at temperatures between 350–450 °C

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F20%3A00540385" target="_blank" >RIV/68378271:_____/20:00540385 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    ZnO as transparent and conductive oxide versus diamond thin films for PIN diodes based on a-SiC:H deposited at temperatures between 350–450 °C

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this study, we tested temperature stability of aluminum doped ZnO thin films and compare them with nano-crystalline diamond (NCD). The NCD films were deposited at temperature 450 C. Both types of thin films evince high transmission and a good scattering of light via their high roughness. The surface morphology of the layers before and after annealing in high vacuum in the range from 350 to 450 C were characterized by scanning electron microscopy and atomic force microscopy. As well as the changes of optical transmissions and electrical conductivities were studied. Finally, a-SiC:H diode structures were fabricated on the annealed films and characterized by I-V measurements.n

  • Název v anglickém jazyce

    ZnO as transparent and conductive oxide versus diamond thin films for PIN diodes based on a-SiC:H deposited at temperatures between 350–450 °C

  • Popis výsledku anglicky

    In this study, we tested temperature stability of aluminum doped ZnO thin films and compare them with nano-crystalline diamond (NCD). The NCD films were deposited at temperature 450 C. Both types of thin films evince high transmission and a good scattering of light via their high roughness. The surface morphology of the layers before and after annealing in high vacuum in the range from 350 to 450 C were characterized by scanning electron microscopy and atomic force microscopy. As well as the changes of optical transmissions and electrical conductivities were studied. Finally, a-SiC:H diode structures were fabricated on the annealed films and characterized by I-V measurements.n

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů