Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F21%3A00552303" target="_blank" >RIV/68378271:_____/21:00552303 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://hdl.handle.net/11104/0327435" target="_blank" >http://hdl.handle.net/11104/0327435</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1116/6.0001054" target="_blank" >10.1116/6.0001054</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A magnetron sputtering discharge with a positively biased anode in argon gas is investigated by Langmuir probe diagnostics and by energy-resolved mass spectrometry. The discharge is operated in continuous (direct current) and in pulsed (high power impulse magnetron sputtering, Hi) mode with a Ti target and in Ar gas. Singly-charged Ar.+., Ti.+., and Ar.2..+. and doubly-charged Ar.2+. and Ti.2+. ions are observed. A novel approach is to bias the magnetron anode. Application of a positive anode voltage shifts the kinetic energies of plasma ions by qe.0.V.a., where V.a. is the anode voltage and qe.0. is the ion charge. It allows for an effective control of plasma ion energies.

  • Název v anglickém jazyce

    Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode

  • Popis výsledku anglicky

    A magnetron sputtering discharge with a positively biased anode in argon gas is investigated by Langmuir probe diagnostics and by energy-resolved mass spectrometry. The discharge is operated in continuous (direct current) and in pulsed (high power impulse magnetron sputtering, Hi) mode with a Ti target and in Ar gas. Singly-charged Ar.+., Ti.+., and Ar.2..+. and doubly-charged Ar.2+. and Ti.2+. ions are observed. A novel approach is to bias the magnetron anode. Application of a positive anode voltage shifts the kinetic energies of plasma ions by qe.0.V.a., where V.a. is the anode voltage and qe.0. is the ion charge. It allows for an effective control of plasma ion energies.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films

  • ISSN

    0734-2101

  • e-ISSN

    1520-8559

  • Svazek periodika

    39

  • Číslo periodika v rámci svazku

    4

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    15

  • Strana od-do

    043007

  • Kód UT WoS článku

    000665103800001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85108705144