Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

A CMOS-compatible morphotropic phase boundary

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F21%3A00556467" target="_blank" >RIV/68378271:_____/21:00556467 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac1716" target="_blank" >https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac1716</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/ac1716" target="_blank" >10.1088/1361-6528/ac1716</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    A CMOS-compatible morphotropic phase boundary

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Morphotropic phase boundaries (MPBs) show substantial piezoelectric and dielectric responses, which have practical applications. The predicted existence of MPB in HfO2–ZrO2 solid solution thin film has provided a new way to increase the dielectric properties of a silicon-compatible device. Here, we present a new fabrication design by which the density of MPB rMPB and consequently the dielectric constant òr of HfO2–ZrO2 thin film was considerably increased. The rMPB was controlled by fabrication of a 10 nm [1 nm Hf0.5Zr0.5O2 (ferroelectric)/1 nm ZrO2 (antiferroelectric)] nanolaminate followed by an appropriate annealing process.

  • Název v anglickém jazyce

    A CMOS-compatible morphotropic phase boundary

  • Popis výsledku anglicky

    Morphotropic phase boundaries (MPBs) show substantial piezoelectric and dielectric responses, which have practical applications. The predicted existence of MPB in HfO2–ZrO2 solid solution thin film has provided a new way to increase the dielectric properties of a silicon-compatible device. Here, we present a new fabrication design by which the density of MPB rMPB and consequently the dielectric constant òr of HfO2–ZrO2 thin film was considerably increased. The rMPB was controlled by fabrication of a 10 nm [1 nm Hf0.5Zr0.5O2 (ferroelectric)/1 nm ZrO2 (antiferroelectric)] nanolaminate followed by an appropriate annealing process.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Nanotechnology

  • ISSN

    0957-4484

  • e-ISSN

    1361-6528

  • Svazek periodika

    32

  • Číslo periodika v rámci svazku

    44

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    445706

  • Kód UT WoS článku

    000684700100001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85113712394