Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00548925" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00548925 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68407700:21230/22:00352969

Výsledek na webu

<a href="https://doi.org/10.1002/pssa.202100427" target="_blank" >https://doi.org/10.1002/pssa.202100427</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssa.202100427" target="_blank" >10.1002/pssa.202100427</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma provides specific adjustment of solid-state surface properties offering an alternative to high temperature treatment. In this work, hydrogen plasma treatment of monocrystalline (0001) ZnO surface is studied in an inductively coupled plasma (ICP) reactor with reduced capacitively coupled plasma mode. We explain the crucial role of electrical grounding of the sample holder for plasma etching and related changes in the morphology, optical and electrical properties of surfaces exposed to electron and ion bombardment. The effects on the chemical composition of the surface are analyzed by (XPS), optical properties by photoluminescence spectroscopy, topography, roughness and surface potential by atomic force microscopy (AFM) and Kelvin probe force microscopy (KPFM). All methods show altered ZnO surface properties before and after plasma treatment strongly depending on the electrical potential of the holder.

Název v anglickém jazyce

Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface

Popis výsledku anglicky

Plasma provides specific adjustment of solid-state surface properties offering an alternative to high temperature treatment. In this work, hydrogen plasma treatment of monocrystalline (0001) ZnO surface is studied in an inductively coupled plasma (ICP) reactor with reduced capacitively coupled plasma mode. We explain the crucial role of electrical grounding of the sample holder for plasma etching and related changes in the morphology, optical and electrical properties of surfaces exposed to electron and ion bombardment. The effects on the chemical composition of the surface are analyzed by (XPS), optical properties by photoluminescence spectroscopy, topography, roughness and surface potential by atomic force microscopy (AFM) and Kelvin probe force microscopy (KPFM). All methods show altered ZnO surface properties before and after plasma treatment strongly depending on the electrical potential of the holder.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2022

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Physica Status Solidi A

ISSN

1862-6300

e-ISSN

1862-6319

Svazek periodika

219

Číslo periodika v rámci svazku

16

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

2100427

Kód UT WoS článku

000720624700001

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85119439391