Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00555890" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00555890 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/60461373:22310/22:43922672

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679" target="_blank" >10.1016/j.vacuum.2021.110679</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Photoactive semiconducting crystalline films of non-stoichiometric tungsten oxides (WO3-x, 0 ≤ x ≤ 3) were deposited by DC hollow cathode discharge from a tungsten nozzle in a reactive Ar + O2 atmosphere. The ratio of tungsten to oxygen in the layer was driven by controlling the O2 flow. All layers were prepared on soda-lime glass substrate (SLG) and on glass substrates coated with an FTO thin film and after deposition were annealed in air or argon atmosphere. The properties of WO3-x layers were analyzed with respect to their potential applications. Surface morphology was analyzed by SEM, qualitative phase analysis by XRD and Raman spectroscopy, chemical composition by EDX and photoactivity of individual samples by linear voltammetry. The layers stoichiometrically closest to WO3 and annealed in an argon atmosphere showed the highest photoactivity response.

  • Název v anglickém jazyce

    WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge

  • Popis výsledku anglicky

    Photoactive semiconducting crystalline films of non-stoichiometric tungsten oxides (WO3-x, 0 ≤ x ≤ 3) were deposited by DC hollow cathode discharge from a tungsten nozzle in a reactive Ar + O2 atmosphere. The ratio of tungsten to oxygen in the layer was driven by controlling the O2 flow. All layers were prepared on soda-lime glass substrate (SLG) and on glass substrates coated with an FTO thin film and after deposition were annealed in air or argon atmosphere. The properties of WO3-x layers were analyzed with respect to their potential applications. Surface morphology was analyzed by SEM, qualitative phase analysis by XRD and Raman spectroscopy, chemical composition by EDX and photoactivity of individual samples by linear voltammetry. The layers stoichiometrically closest to WO3 and annealed in an argon atmosphere showed the highest photoactivity response.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2022

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Vacuum

  • ISSN

    0042-207X

  • e-ISSN

    1879-2715

  • Svazek periodika

    195

  • Číslo periodika v rámci svazku

    Jan

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    110679

  • Kód UT WoS článku

    000732993600005

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85117190905