Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F23%3A00573076" target="_blank" >RIV/68378271:_____/23:00573076 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://hdl.handle.net/11104/0346388" target="_blank" >https://hdl.handle.net/11104/0346388</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/acd5fc" target="_blank" >10.1088/1361-6595/acd5fc</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge
Popis výsledku v původním jazyce
The pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge with a tungsten cathode in an argon+oxygen gas mixture gas was investigated. The HiPIMS discharge is operated with a variable pulse length of 20–500 μs. Discharge current measurements, optical emission spectroscopy of neutral Ar, O, and W lines, and energy-resolved ion mass spectrometry are employed. A pronounced dependence of the discharge current on pulse length is noted while the initial discharge voltage is maintained constant. Energy-resolved mass spectrometry shows that the oxygen-to-tungsten (O+/W+) and the tungsten oxide-to-tungsten (WO+/W+) ion ratio decreases with pulse length due to target cleaning. Simulation results employing the SDTrimSP program show the formation of a non-stoichiometric sub-surface compound layer of oxygen which depends on the impinging ion composition and thus on the pulse length.
Název v anglickém jazyce
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge
Popis výsledku anglicky
The pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge with a tungsten cathode in an argon+oxygen gas mixture gas was investigated. The HiPIMS discharge is operated with a variable pulse length of 20–500 μs. Discharge current measurements, optical emission spectroscopy of neutral Ar, O, and W lines, and energy-resolved ion mass spectrometry are employed. A pronounced dependence of the discharge current on pulse length is noted while the initial discharge voltage is maintained constant. Energy-resolved mass spectrometry shows that the oxygen-to-tungsten (O+/W+) and the tungsten oxide-to-tungsten (WO+/W+) ion ratio decreases with pulse length due to target cleaning. Simulation results employing the SDTrimSP program show the formation of a non-stoichiometric sub-surface compound layer of oxygen which depends on the impinging ion composition and thus on the pulse length.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2023
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Sources Science & Technology
ISSN
0963-0252
e-ISSN
1361-6595
Svazek periodika
32
Číslo periodika v rámci svazku
5
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
12
Strana od-do
055013
Kód UT WoS článku
000999940400001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85161561200