Ultrafast infrared laser crystallization of amorphous Ge films on glass substrates
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F23%3A00577936" target="_blank" >RIV/68378271:_____/23:00577936 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21340/23:00370505
Výsledek na webu
<a href="https://hdl.handle.net/11104/0347013" target="_blank" >https://hdl.handle.net/11104/0347013</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.3390/mi14112048" target="_blank" >10.3390/mi14112048</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ultrafast infrared laser crystallization of amorphous Ge films on glass substrates
Popis výsledku v původním jazyce
Amorphous germanium films on nonrefractory glass substrates were annealed by ultrashort near-infrared (1030 nm, 1.4 ps) and mid-infrared (1500 nm, 70 fs) laser pulses. Crystallization of germanium irradiated at a laser energy density (fluence) range from 25 to 400 mJ/cm2 under single-shot and multishot conditions was investigated using Raman spectroscopy. The dependence of the fraction of the crystalline phase on the fluence was obtained for picosecond and femtosecond laser annealing. The regimes of almost complete crystallization of germanium films over the entire thickness were obtained (from the analysis of Raman spectra with excitation of 785 nm laser). The possibility of scanning laser processing is shown, which can be used to create films of micro- and nanocrystalline germanium on flexible substrates.
Název v anglickém jazyce
Ultrafast infrared laser crystallization of amorphous Ge films on glass substrates
Popis výsledku anglicky
Amorphous germanium films on nonrefractory glass substrates were annealed by ultrashort near-infrared (1030 nm, 1.4 ps) and mid-infrared (1500 nm, 70 fs) laser pulses. Crystallization of germanium irradiated at a laser energy density (fluence) range from 25 to 400 mJ/cm2 under single-shot and multishot conditions was investigated using Raman spectroscopy. The dependence of the fraction of the crystalline phase on the fluence was obtained for picosecond and femtosecond laser annealing. The regimes of almost complete crystallization of germanium films over the entire thickness were obtained (from the analysis of Raman spectra with excitation of 785 nm laser). The possibility of scanning laser processing is shown, which can be used to create films of micro- and nanocrystalline germanium on flexible substrates.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/EF15_003%2F0000445" target="_blank" >EF15_003/0000445: Pokročilá příprava funkčních materiálů: Od mono k bi- a tri-chromatické excitaci s použitím tvarovaných laserových pulsů</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2023
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Micromachines
ISSN
2072-666X
e-ISSN
2072-666X
Svazek periodika
14
Číslo periodika v rámci svazku
11
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
14
Strana od-do
2048
Kód UT WoS článku
001113669700001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85178109648