Funkční vzorek vrstvy AR při DUV (257 nm) s vysokou prahovou hodnotou odolnosti

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F25%3A00644282" target="_blank" >RIV/68378271:_____/25:00644282 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68081731:_____/25:00644282

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Funkční vzorek vrstvy AR při DUV (257 nm) s vysokou prahovou hodnotou odolnosti

Popis výsledku v původním jazyce

Pomocí pokročilých metod vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence iontů (PIAD) byly na substrátu optického taveného křemene vytvořeny antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 257 nm s ultranízkými ztrátami a související odolností proti výkonovým laserovým pulzům. Unikátnost výsledku spočívá právě ve vysoké odolnosti vrstvy na průchod výkonových laserových pulzů, které mají energii řádově milijouly a délku pulzu v rozsahu jednotek pikosekund na vlnové délce 257 nm, která již spadá do oboru DUV – v celosvětovém pohledu takové vrstvy nejsou doposud komerčně dostupné, protože výkonové laserové pulzy na tak krátké vlnové délce se doposud příliš nevyužívají. Vytvořené antireflexní vrstvy vznikají technologií vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence argonových iontů. Jde o systém střídavých vrstev dvou materiálů SiO2 a HfO2. Právě kombinace zmíněné technologie vrstvení a použití oxidu hafnia vede ke vzniku AR vrstvy s optickými ztrátami na úrovni setin procenta procházejícího záření. Na mikrokrystalické úrovni pak nevznikají rozptylová centra, na kterých dochází k postupné degradaci vrstev při průchodů vysokovýkonných pikosekundových laserových pulzů.

Název v anglickém jazyce

Functional pattern of AR layer at DUV (257 nm) with high performance immunity threshold

Popis výsledku anglicky

Using advanced plasma-assisted vacuum evaporation methods, anti-reflective coatings for a wavelength of 257 nm with ultra-low losses and associated water resistance to high-power laser pulses were created on a fused silica optical substrate. The uniqueness of the result lies precisely in the high resistance of the layer to the passage of high-power laser pulses, which have an energy of the order of millijoules and a pulse length in the range of picoseconds at a wavelength of 257 nm, which already falls within the field of DUV. Globally, such layers are not yet commercially available because high-power laser pulses at such short wavelengths have not been widely used to date. The anti-reflective layers are created using vacuum evaporation, in particular plasma ion assisted deposition (PIAD). It is a system of alternating layers of two materials, SiO2 and HfO2. It is the combination of this layering technology and the use of hafnium oxide that leads to the creation of an AR layer with optical losses at the level of hundredths of a percent of the transmitted radiation. At the microcrystalline level, there are no scattering centres where the layers gradually degrade when high-power picosecond laser pulses pass through.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

—

OECD FORD obor

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Projekt

<a href="/cs/project/TN02000020" target="_blank" >TN02000020: Centrum pokročilé elektronové a fotonové optiky</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2025

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

APL-2025-13

Číselná identifikace

—

Technické parametry

Pomocí pokročilých metod vakuového napařování s podporou plazmatu byly na substrátu optického taveného křemene vytvořeny antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 257 nm s ultranízkými ztrátami a související vodolností proti výkonovým laserovým pulzům.

Ekonomické parametry

Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. RNDr. Libor Mrňa, Ph.D., mrna@isibrno.cz.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

68081731

Název vlastníka

Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Požadavek na licenční poplatek

N - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—