Structuring of diamond films using microsphere lithography
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21110%2F14%3A00223276" target="_blank" >RIV/68407700:21110/14:00223276 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/14:00440224 RIV/68407700:21340/14:00223276
Výsledek na webu
<a href="https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/AP.2014.54.0320/2175" target="_blank" >https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/AP.2014.54.0320/2175</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.14311/AP.2014.54.0320" target="_blank" >10.14311/AP.2014.54.0320</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Structuring of diamond films using microsphere lithography
Popis výsledku v původním jazyce
In this study, the structuring of micro-and nanocrystalline diamond thin films is demonstrated. The diamond films are structured using the technique of microsphere lithography followed by reactive ion etching. Specifically, this paper presents a four-step fabrication process: diamond deposition (microwave plasma assisted chemical vapor deposition), mask preparation (by the standard Langmuir-Blodgett method), mask modification and diamond etching. A self-assembled monolayer of monodisperse polystyrene (PS) microspheres with close-packed ordering is used as the primary template. Then the PS microspheres and the diamond films are processed in capacitively coupled radiofrequency plasma using various plasma chemistries. This fabrication method illustrates the preparation of large arrays of periodic and homogeneous hillock-like structures. The surface morphology of the processed diamond films is characterized by scanning electron microscopy and with the use of an atomic force microscope. The
Název v anglickém jazyce
Structuring of diamond films using microsphere lithography
Popis výsledku anglicky
In this study, the structuring of micro-and nanocrystalline diamond thin films is demonstrated. The diamond films are structured using the technique of microsphere lithography followed by reactive ion etching. Specifically, this paper presents a four-step fabrication process: diamond deposition (microwave plasma assisted chemical vapor deposition), mask preparation (by the standard Langmuir-Blodgett method), mask modification and diamond etching. A self-assembled monolayer of monodisperse polystyrene (PS) microspheres with close-packed ordering is used as the primary template. Then the PS microspheres and the diamond films are processed in capacitively coupled radiofrequency plasma using various plasma chemistries. This fabrication method illustrates the preparation of large arrays of periodic and homogeneous hillock-like structures. The surface morphology of the processed diamond films is characterized by scanning electron microscopy and with the use of an atomic force microscope. The
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GBP108%2F12%2FG108" target="_blank" >GBP108/12/G108: Příprava, modifikace a charakterizace materiálů zářením</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Acta Polytechnica
ISSN
1210-2709
e-ISSN
—
Svazek periodika
54
Číslo periodika v rámci svazku
5
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
320-324
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—