Structuring of diamond films using microsphere lithography

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21110%2F14%3A00223276" target="_blank" >RIV/68407700:21110/14:00223276 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/14:00440224 RIV/68407700:21340/14:00223276

Výsledek na webu

<a href="https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/AP.2014.54.0320/2175" target="_blank" >https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/AP.2014.54.0320/2175</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.14311/AP.2014.54.0320" target="_blank" >10.14311/AP.2014.54.0320</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structuring of diamond films using microsphere lithography

Popis výsledku v původním jazyce

In this study, the structuring of micro-and nanocrystalline diamond thin films is demonstrated. The diamond films are structured using the technique of microsphere lithography followed by reactive ion etching. Specifically, this paper presents a four-step fabrication process: diamond deposition (microwave plasma assisted chemical vapor deposition), mask preparation (by the standard Langmuir-Blodgett method), mask modification and diamond etching. A self-assembled monolayer of monodisperse polystyrene (PS) microspheres with close-packed ordering is used as the primary template. Then the PS microspheres and the diamond films are processed in capacitively coupled radiofrequency plasma using various plasma chemistries. This fabrication method illustrates the preparation of large arrays of periodic and homogeneous hillock-like structures. The surface morphology of the processed diamond films is characterized by scanning electron microscopy and with the use of an atomic force microscope. The

Název v anglickém jazyce

Structuring of diamond films using microsphere lithography

Popis výsledku anglicky

In this study, the structuring of micro-and nanocrystalline diamond thin films is demonstrated. The diamond films are structured using the technique of microsphere lithography followed by reactive ion etching. Specifically, this paper presents a four-step fabrication process: diamond deposition (microwave plasma assisted chemical vapor deposition), mask preparation (by the standard Langmuir-Blodgett method), mask modification and diamond etching. A self-assembled monolayer of monodisperse polystyrene (PS) microspheres with close-packed ordering is used as the primary template. Then the PS microspheres and the diamond films are processed in capacitively coupled radiofrequency plasma using various plasma chemistries. This fabrication method illustrates the preparation of large arrays of periodic and homogeneous hillock-like structures. The surface morphology of the processed diamond films is characterized by scanning electron microscopy and with the use of an atomic force microscope. The

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GBP108%2F12%2FG108" target="_blank" >GBP108/12/G108: Příprava, modifikace a charakterizace materiálů zářením</a><br>

Návaznosti

S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Acta Polytechnica

ISSN

1210-2709

e-ISSN

—

Svazek periodika

54

Číslo periodika v rámci svazku

5

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

320-324

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—