Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Manipulátor pro iontovou implantaci do substrátů ve vertikální poloze

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F08%3A00160429" target="_blank" >RIV/68407700:21220/08:00160429 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Manipulátor pro iontovou implantaci do substrátů ve vertikální poloze

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Manipulátor pro iontovou implantaci do substrátů ve vertikální poloze byl vyvinut a zkonstruován pro homogenní iontovou implantaci v geometrickém uspořádání zabezpečujícím kolmý dopad iontového svazku na rovinnou plochu substrátu. V tomto uspořádání se dosahuje největšího doletu iontů v substrátu a minimální iontové rozpašování. Homogenní iontová implantace je dosahována rotací substrátu, která je zajištěna příslušným převodním mechanismem.

  • Název v anglickém jazyce

    Manipulator for ion implantation into substrates in vertical position

  • Popis výsledku anglicky

    Manipulator for ion implantation into substrates in vertical position was developped and constructed for homogenous ion implantation in geometrical arrangement, in which is reached perpendicular direction between axis of ion beam and planar area of substrate. In this arrangement the maximal ion range in substrate and minimal ion sputtering are reached. Homogenous ion implantation is reached by the rotation of substrate by means of special mechanism.

Klasifikace

  • Druh

    G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek

  • CEP obor

    JQ - Strojní zařízení a nástroje

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    12102 - P02 - 2008 - 11

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    Iontová implantace do substrátů ve vertikální poloze

  • Ekonomické parametry

    4 000 Kč

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    68407700

  • Název vlastníka

    České vysoké učení technické v Praze, Fakulta strojní

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

  • Požadavek na licenční poplatek

    Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem