Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F14%3A00223787" target="_blank" >RIV/68407700:21220/14:00223787 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/60076658:12410/14:43887118

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896" target="_blank" >10.1109/TPS.2014.2326896</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A physical vapor deposition (PVD) method using plasma discharge-glancing angle deposition (GLAD), based on a variation of the particle's incidence angle to the substrate, enables the formation of TiO2 thin films with oriented columnar nanostructure. Theincidence angle influences crystalline, nanostructure, and surface properties of the deposited films. Images illustrating the GLAD PVD method and scanning electron microscopy images of the TiO2 thin films deposited with different incidence angles alpha are presented.

  • Název v anglickém jazyce

    Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films

  • Popis výsledku anglicky

    A physical vapor deposition (PVD) method using plasma discharge-glancing angle deposition (GLAD), based on a variation of the particle's incidence angle to the substrate, enables the formation of TiO2 thin films with oriented columnar nanostructure. Theincidence angle influences crystalline, nanostructure, and surface properties of the deposited films. Images illustrating the GLAD PVD method and scanning electron microscopy images of the TiO2 thin films deposited with different incidence angles alpha are presented.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2014

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    IEEE Transactions on Plasma Science

  • ISSN

    0093-3813

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    42

  • Číslo periodika v rámci svazku

    10

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    2790-2791

  • Kód UT WoS článku

    000344548300233

  • EID výsledku v databázi Scopus