Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F14%3A00223787" target="_blank" >RIV/68407700:21220/14:00223787 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/60076658:12410/14:43887118
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2326896" target="_blank" >10.1109/TPS.2014.2326896</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films
Popis výsledku v původním jazyce
A physical vapor deposition (PVD) method using plasma discharge-glancing angle deposition (GLAD), based on a variation of the particle's incidence angle to the substrate, enables the formation of TiO2 thin films with oriented columnar nanostructure. Theincidence angle influences crystalline, nanostructure, and surface properties of the deposited films. Images illustrating the GLAD PVD method and scanning electron microscopy images of the TiO2 thin films deposited with different incidence angles alpha are presented.
Název v anglickém jazyce
Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films
Popis výsledku anglicky
A physical vapor deposition (PVD) method using plasma discharge-glancing angle deposition (GLAD), based on a variation of the particle's incidence angle to the substrate, enables the formation of TiO2 thin films with oriented columnar nanostructure. Theincidence angle influences crystalline, nanostructure, and surface properties of the deposited films. Images illustrating the GLAD PVD method and scanning electron microscopy images of the TiO2 thin films deposited with different incidence angles alpha are presented.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
IEEE Transactions on Plasma Science
ISSN
0093-3813
e-ISSN
—
Svazek periodika
42
Číslo periodika v rámci svazku
10
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
2790-2791
Kód UT WoS článku
000344548300233
EID výsledku v databázi Scopus
—