Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Radiation Enhanced Diffusion of Nickel in Silicon Diodes

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F12%3A00194609" target="_blank" >RIV/68407700:21230/12:00194609 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Radiation Enhanced Diffusion of Nickel in Silicon Diodes

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High-power P-I-N diodes (2.5 kV, 150 A) with sputtered NiV and NiCr layers at anode were implanted by 10 MeV helium ions and subsequently annealed in the range 550 - 800 oC. The devices were characterized using XPS, DLTS and OCVD. Leakage current, forward voltage drop and reverse recovery measurements were measured as well. The Radiation Enhanced Diffusion (RED) of nickel was registered after 20 min. annealing between 675 and 725 oC. The evidence was provided by depth profiling (DLTS). The effect of theRED of nickel on device electrical parameters was evaluated. Contrary to the palladium, the RED of nickel is not sufficient for the local control of carrier lifetime in power devices.

  • Název v anglickém jazyce

    Radiation Enhanced Diffusion of Nickel in Silicon Diodes

  • Popis výsledku anglicky

    High-power P-I-N diodes (2.5 kV, 150 A) with sputtered NiV and NiCr layers at anode were implanted by 10 MeV helium ions and subsequently annealed in the range 550 - 800 oC. The devices were characterized using XPS, DLTS and OCVD. Leakage current, forward voltage drop and reverse recovery measurements were measured as well. The Radiation Enhanced Diffusion (RED) of nickel was registered after 20 min. annealing between 675 and 725 oC. The evidence was provided by depth profiling (DLTS). The effect of theRED of nickel on device electrical parameters was evaluated. Contrary to the palladium, the RED of nickel is not sufficient for the local control of carrier lifetime in power devices.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    ISPS'12 PROCEEDINGS

  • ISBN

    978-80-01-05100-9

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    1-4

  • Název nakladatele

    České vysoké učení technické v Praze

  • Místo vydání

    Praha

  • Místo konání akce

    Praha

  • Datum konání akce

    28. 8. 2012

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku