Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Manufacturing of membranes by laser ablation in SiC, sapphire, glass and ceramic for GaN/ferroelectric thin film MEMS and pressure sensors

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F16%3A00305303" target="_blank" >RIV/68407700:21230/16:00305303 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://link.springer.com/journal/542" target="_blank" >http://link.springer.com/journal/542</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1007/s00542-016-2887-2" target="_blank" >10.1007/s00542-016-2887-2</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Manufacturing of membranes by laser ablation in SiC, sapphire, glass and ceramic for GaN/ferroelectric thin film MEMS and pressure sensors

  • Popis výsledku v původním jazyce

    AlGaN/GaN-based high electron mobility transistors (HEMTs), Schottky diodes and/or resistors have been presented as sensing devices for mechanical or chemical sensors operating in extreme conditions. The sensitivity of the AlGaN/GaN based MEMS pressure sensor can be modiied by membrane thickness. In case of SiC as substrate material of the epitaxial AlGaN/GaN heterostructure layers, we applied laser ablation technique for micromachining of the membranes. We were able to verify the feasibility of this process by fabrication of micromechanical membrane structures also in bulk 3C-SiC, borosilicate glass, sapphire and Al2O3 ceramic substrates by femtosecond laser (520 nm) ablation. On a 350 µm-thick 4H-SiC substrate we produced an array of 275 µm deep and 1000–3000 µm in diameter blind holes without damaging the 2 µm GaN layer at the back side. Our experiments indicate that pinhole defects in the ablated membranes are affected by ripple structures related to the polarization of the laser. We developed an ablation technique inhibiting the formation of pin holes caused by laser induced periodic surface structures (LIPSS).

  • Název v anglickém jazyce

    Manufacturing of membranes by laser ablation in SiC, sapphire, glass and ceramic for GaN/ferroelectric thin film MEMS and pressure sensors

  • Popis výsledku anglicky

    AlGaN/GaN-based high electron mobility transistors (HEMTs), Schottky diodes and/or resistors have been presented as sensing devices for mechanical or chemical sensors operating in extreme conditions. The sensitivity of the AlGaN/GaN based MEMS pressure sensor can be modiied by membrane thickness. In case of SiC as substrate material of the epitaxial AlGaN/GaN heterostructure layers, we applied laser ablation technique for micromachining of the membranes. We were able to verify the feasibility of this process by fabrication of micromechanical membrane structures also in bulk 3C-SiC, borosilicate glass, sapphire and Al2O3 ceramic substrates by femtosecond laser (520 nm) ablation. On a 350 µm-thick 4H-SiC substrate we produced an array of 275 µm deep and 1000–3000 µm in diameter blind holes without damaging the 2 µm GaN layer at the back side. Our experiments indicate that pinhole defects in the ablated membranes are affected by ripple structures related to the polarization of the laser. We developed an ablation technique inhibiting the formation of pin holes caused by laser induced periodic surface structures (LIPSS).

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2016

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Microsystem Technologies

  • ISSN

    0946-7076

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    22

  • Číslo periodika v rámci svazku

    7

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    1883-1892

  • Kód UT WoS článku

    000379331500038

  • EID výsledku v databázi Scopus