Není k dispozici
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F06%3A04126689" target="_blank" >RIV/68407700:21340/06:04126689 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Electroluminiscence of Silicon Nanocrystals in p-i-n Diodes Structure
Popis výsledku v původním jazyce
A new method of fabrication of nanocrystalline silicon-based light-emitting-devices is introduced. Si nanocrystals are derived from combustion or pyrolysis of silane and etched subsequently in a two-phase solution of HF. The p–i–n diodes havean active layer (20–60 nm) of Si nanocrystals sandwiched between thin isolating layers of SiO2 or a-Si : H and a top-layer of p+ doped silicon, the substrate being of n+ Si. For both types of structures, electroluminescence is observed under forward bias exceeding 5 V and the spectrum consists of a broad band (due to a large size distribution of Si nanocrystals) centred around 650 nm and giving a yellowish appearance when observed by naked-eye. The integrated electroluminescence intensity growthswith the square of applied bias.
Název v anglickém jazyce
Electroluminiscence of Silicon Nanocrystals in p-i-n Diodes Structure
Popis výsledku anglicky
A new method of fabrication of nanocrystalline silicon-based light-emitting-devices is introduced. Si nanocrystals are derived from combustion or pyrolysis of silane and etched subsequently in a two-phase solution of HF. The p–i–n diodes havean active layer (20–60 nm) of Si nanocrystals sandwiched between thin isolating layers of SiO2 or a-Si : H and a top-layer of p+ doped silicon, the substrate being of n+ Si. For both types of structures, electroluminescence is observed under forward bias exceeding 5 V and the spectrum consists of a broad band (due to a large size distribution of Si nanocrystals) centred around 650 nm and giving a yellowish appearance when observed by naked-eye. The integrated electroluminescence intensity growthswith the square of applied bias.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/KAN400670651" target="_blank" >KAN400670651: Výzkum rozhraní kovových nanočástic s InP pro monitoring nežádoucích látek, plynů a záření v životním prostředí</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
515
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
775-777
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—