Metrologie Mo/Si mnohavrstevnatých zrcadel na 13,5 nm s použitím zdroje extrémního ultrafialového záření využívajícího laserem produkované plasma na terči z plynového výronu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F06%3A04138346" target="_blank" >RIV/68407700:21340/06:04138346 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper an application of a recently developed laser plasma source of extreme ultraviolet (EUV) for optical measurements of optical characteristics of Mo/Si multilayer mirrors is presented. The source is based on an xenon-helium double-stream gas puff target irradiated with laser pulses from a Nd: YAG laser system (E = 0.55 J, t = 3.9 ns, f = 10 Hz, M-2 = 2.5). The results show that the source can be useful for EUV lithography technologies as a metrology tool in the semiconductor industry.

Název v anglickém jazyce

Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Popis výsledku anglicky

In this paper an application of a recently developed laser plasma source of extreme ultraviolet (EUV) for optical measurements of optical characteristics of Mo/Si multilayer mirrors is presented. The source is based on an xenon-helium double-stream gas puff target irradiated with laser pulses from a Nd: YAG laser system (E = 0.55 J, t = 3.9 ns, f = 10 Hz, M-2 = 2.5). The results show that the source can be useful for EUV lithography technologies as a metrology tool in the semiconductor industry.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Optica Applicata

ISSN

0078-5466

e-ISSN

—

Svazek periodika

36

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

PL - Polská republika

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

593-600

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—