Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Preparation and analysis of plasmonic Ag thin films deposited by Ionized Jet Deposition method and Magnetron Sputtering method

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F24%3A00378628" target="_blank" >RIV/68407700:21340/24:00378628 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Preparation and analysis of plasmonic Ag thin films deposited by Ionized Jet Deposition method and Magnetron Sputtering method

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Plasmonics is an advanced technology in the field of optical sensors. A methodology for the preparation of silver thin films suitable for plasmonics by Ionized Jet Deposition is developed. The RF Magnetron sputtering method is used for comparison as a well mastered technique. The roughness, relative permittivity and growth rate of the layers are analyzed using atomic force microscopy, attenuated total reflection and ellipsometry methods. Samples prepared by Magnetron Sputtering show slightly better properties, but the preparation by Ionized Jet Deposition can be further optimized.

  • Název v anglickém jazyce

    Preparation and analysis of plasmonic Ag thin films deposited by Ionized Jet Deposition method and Magnetron Sputtering method

  • Popis výsledku anglicky

    Plasmonics is an advanced technology in the field of optical sensors. A methodology for the preparation of silver thin films suitable for plasmonics by Ionized Jet Deposition is developed. The RF Magnetron sputtering method is used for comparison as a well mastered technique. The roughness, relative permittivity and growth rate of the layers are analyzed using atomic force microscopy, attenuated total reflection and ellipsometry methods. Samples prepared by Magnetron Sputtering show slightly better properties, but the preparation by Ionized Jet Deposition can be further optimized.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2024

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Sborník příspěvků 13. studentské vědecké konference fyziky pevných látek, fotoniky a materiálů

  • ISBN

    978-80-01-07382-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    28-32

  • Název nakladatele

    ČVUT, Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská, Katedra inženýrství pevných látek

  • Místo vydání

    Praha

  • Místo konání akce

    Byňov-Nové Hrady

  • Datum konání akce

    3. 9. 2024

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku