Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Přímé zobrazení rozložení dopantů v polovodiči pomocí pomalých elektronů

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 8 (SGA02005GA-ST)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    102/05/2327

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Direct imaging of the dopant distribution in a semiconductor by means of low energy clectrons

  • Anotace anglicky

    The project aims at modelling the contrast mechanism valid for a pian view of patterned doping on a semiconductor substrate or variously doped layers in the cleaved cross-section of a multilayered structure when they are imaged with secondary electrons (SE) in the scanning electron microscope (SEM). The state-of-art model, relying upon local differences in the ionisation energy, is not capable of explaining the observed contrast dependence on vacuum conditions. The role of very thin surface layers, likethose of hydrocarbons cracked owing to electron impact, has to be studied. Experiments will be made on doped substrates exposed to various vacuum conditions and observed in conventional SEM and low energy SEM with cathode lens. Surface chemistry will beexamined by means of Auger electrons, both in original status and after removal of surface layers. The influence of collection efficiency of the SE detector, i.e. the influence of electrostatic and magnetic fields around the specimen, on the

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • CEP - vedlejší obor

    JJ - Ostatní materiály

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    20201 - Electrical and electronic engineering<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Cílem projektu bylo prozkoumat mechanismus tvorby kontrastu obrazu v sekundárních elektronech v rastrovacím elektronovém mikroskopu při zobrazování dopovaných oblastí v polovodiči a sestavit model tohoto mechanismu, resp. korigovat stávající modely. Byly

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2005

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2007

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    2. 5. 2007

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP08-GA0-GA-U/04:3

  • Datum dodání záznamu

    16. 12. 2008

Finance

  • Celkové uznané náklady

    2 675 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    1 675 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    1 500 tis. Kč