Procesy v jednopolovém RF výboji s dutou katodou indukovaném v plazmatickém reaktoru

Poskytovatel

Akademie věd České republiky

Program

Granty výrazně badatelského charakteru zaměřené na oblast výzkumu rozvíjeného v současné době zejména v AV ČR

Veřejná soutěž

—

Hlavní účastníci

Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

Druh soutěže

—

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

Processes in the unipolar RF hollow cathode discharge induced in the plasma reactor

Anotace anglicky

About ten years ago a new plasma-chemical reactor with supersonic plasma channel (RPJ) has been developed in the Institute of Physics AS CR. In this reactor the plasma channel is reated by means of the RF unipolar hollow cathode discharge which is superimpose on the primary RF plasma. Experimentally has been found that by means of the RPJ reactor the thin films with defined stoichiometry have been achieved and the thin films can be deposit on the internal walls of cavities, holes and complex shapeof hollow substrates. Recently the two hollow cathode RPJ reactor has been developed by means of which is able to deposit the composite thin films and multilayer structures. Furthermore the RPJ reactor can be used for the novel application for example for surface treatment of polymers and materials which is possible utilize in the medicine, ecological programs and biophysics. Up to now the RPJ reactor has been utilize mostly on the base of the empirical knowledge.

Kategorie VaV

—

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

CEP - další vedlejší obor

—

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)<br>10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Byl vypracován model základních procesů pro nízkotlaký RF doutnavý výboj v unipolární duté katodě. Výsledky byly využity pro optimalizaci parametrů procesu depozice tenkých vrstev.

Zahájení řešení

1. 1. 1998

Ukončení řešení

1. 1. 2000

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP/2001/AV0/AV01IA/U/N/4:2

Datum dodání záznamu

—

Celkové uznané náklady

6 743 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

505 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč